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铜(Cu)靶材

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  • 技术参数

铜旋转靶采用真空熔炼工艺,可生产最大长度4000mm,厚度根据客户要求定制。
    铜平面靶采用真空熔炼工艺,可生产最大长度2500mm,最大宽度400mm,尺寸可根据客户要求加工。

纯度:99.95-99.999%
    应用领域:薄膜太阳能工业,低辐射玻璃工业,平板显示工业,光学镀膜工业,半导体工业,工具及装饰镀膜工业。